太陽光発電・半導体製造関連のお客様のニーズにお応えする各種媒体(油・温水・純水・フッ素系媒体)循環装置です。
熱媒体油(油)循環装置

最高媒体温度320℃まで使用可能な熱媒体(油)循環装置です。最高媒体温度320℃から160℃まで貴社のニーズに合わせてご使用いただけます。

温水循環装置

高い精度と安定性を持った温水循環装置です。昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮できます。


空冷式チラー・冷温調機

空冷式の小型チラー・冷温調機です。


フッ素系媒体(不燃性)温調装置

引火点を持たないフッ素系熱媒体を使用し可燃物のある工場内にも設置可能。不燃性熱媒体で初めて270℃の使用温度を実現しました。


純水循環装置

純水を使用した循環ラインに使用可能。冷却対象物への媒体温度を高い精度で制御します。


熱媒体急温急冷循環装置

媒体温度を高低間で瞬時に切り替えるシステムです。CVD装置の温調、反応装置のジャケット温調、導光板やレンズ等の精密成形、各種チャンバーの熱源装置に最適です。


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